Установки отмывки и сушки пластин

Рады предложить установки отмывки и сушки пластин. Установки SRD (Spin Rinse Dryer) представляют собой универсальное оборудование для финишной отмывки и сушки полупроводниковых пластин, выпускаемое в двух основных конфигурациях: однокамерной (компактные настольные или напольные модели для лабораторий и мелкосерийного производства) и двухкамерной (двухстековые системы с вертикальным расположением камер для параллельной обработки разных партий, что повышает производительность и экономит площадь).

Установка SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100

Установки SRD для пластин диаметром 100 мм (4 дюйма) являются одними из самых распространенных и предлагаются в однокамерном и двухкамерном (двухстековом) исполнении. Двухкамерные системы, такие как двухстековый XWS-602D-100, часто настраиваются для параллельной обработки пластин разных размеров, например, 100 мм в нижней камере и 150 мм в верхней, что значительно экономит пространство в чистой комнате. Стандартная загрузка составляет 25 пластин в кассете. Подробнее по ссылке.

Установка очистки и сушки пластин XWS-602D-150

Для полупроводниковых пластин диаметром 150 мм (6 дюймов) доступны однокамерные и двухкамерные установки SRD. Двухкамерные конфигурации, например, XWS-602D-150, часто совмещают обработку 150 мм пластин в одной камере и 100 мм пластин в другой. Существуют также специализированные однокамерные решения, такие как XWS-602-150, представляющие собой программируемые установки с фронтальной загрузкой для одной кассеты. Подробнее по ссылке. 

Установка SRD очистки и сушки пластин XWS-602D-200

Обработка пластин диаметром 200 мм (8 дюймов) осуществляется на высокопроизводительных установках SRD, которые доступны в однокамерном и двухкамерном (dual-stack) исполнении. Двухкамерные модели, такие как XWS-602D-200, специально разработаны для высокопроизводительной обработки 200 мм пластин в низкопрофильных кассетах. Эти системы обеспечивают передовую очистку, отмывку и сушку, эффективно удаляя химические реагенты и остатки без образования пятен или пленок. Подробнее по ссылке.

Установка очистки и отмывки пластин и фотошаблонов XWS-602D-300

Для самых больших полупроводниковых пластин диаметром 300 мм (12 дюймов) предлагаются высокопроизводительные установки SRD, доступные как в однокамерной, так и в двухкамерной (two-bowl) конфигурации. Эти системы, например, модели XWS-602D-300, способны обрабатывать до 25 пластин за цикл в каждой камере. Оборудование обеспечивает гибкость процессов, позволяя выполнять как полный цикл «отмывка + сушка», так и только сушку. Установки совместимы с высокими и низкопрофильными кассетами. Подробнее по ссылке.