Установка SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100
Установка SRD XWS-602D-100 представляет собой высокотехнологичное оборудование, предназначенное для финишной очистки (отмывки) и сушки полупроводниковых пластин. Данная модель ориентирована на работу с пластинами диаметром 100 мм (4 дюйма) и построена по модульному принципу, что позволяет гибко настраивать её под различные производственные задачи. Основное назначение установки — удаление с поверхности пластин остатков химических реагентов и загрязнений после жидкостных обработок, что является критически важным этапом для обеспечения чистоты перед последующими операциями, такими как фотолитография или нанесение тонких пленок.
Установка SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100 с одним барабаном
Установка XWS-602D-100 может поставляться в двух основных конфигурациях: с одним или с двумя барабанами (камерами обработки). Модель с одним барабаном представляет собой компактное решение, идеально подходящее для исследовательских лабораторий, опытных производств или предприятий с небольшими объемами выпуска. Технологический процесс на установке XWS-602D-100 включает два основных этапа: интенсивную отмывку и финишную сушку. На первом этапе пластины тщательно промываются сверхчистой деионизированной водой (DIW).
Установка SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100 с двумя барабанами
Двухбарабанная конфигурация установки SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100, в свою очередь, обеспечивает значительно более высокую производительность, позволяя обрабатывать две партии пластин параллельно и независимо. Это не только ускоряет технологический цикл, но и экономит ценное пространство в чистой комнате, что делает такую установку предпочтительным выбором для серийного производства. Одним из ключевых преимуществ установки XWS-602D-100 является её универсальность.
Установка SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100 с азотом
Установка оснащена современной системой автоматизированного управления на базе программируемого логического контроллера (ПЛК) с интуитивно понятным сенсорным интерфейсом. Это позволяет оператору легко создавать, сохранять и запускать различные рецепты обработки, адаптируя параметры (скорость вращения, время, температуру, расход азота) под конкретные требования. Все рабочие параметры процесса строго контролируются, что обеспечивает высокую воспроизводимость результатов и минимальный уровень контаминации.
Характеристики установки SRD очистки и отмывки пластин XWS-602-100
|
Параметр |
Значение |
| Размер пластин, мм | 50, 76, 100 мм |
| Применение | Фотоника, микроэлектроника, оптоэлектроника, полупроводниковое производство |
| Исполнение | Один или два барабана |
|
|
Установка доступна в двух конфигурациях: с одним барабаном (для лабораторий и опытных линий) и с двумя независимыми барабанами, позволяющими обрабатывать две партии пластин параллельно, что удваивает производительность без увеличения занимаемой площади. Помимо стандартных кассет для пластин, оборудование может комплектоваться сменной оснасткой для очистки фотошаблонов, что расширяет его функциональность. Процесс полностью автоматизирован через сенсорный контроллер с сохранением до 100 рецептов, а все внутренние компоненты выполнены из коррозионностойких материалов (AISI 316L и PTFE), гарантируя долговечность и исключение вторичного загрязнения. Компактность, надёжность и простота переналадки делают XWS‑602D‑100 эффективным решением для производств любого масштаба, работающих с 100‑мм пластинами. |
Чтобы получить коммерческое предложение и купить установку SRD очистки и отмывки пластин XWS-602D-100, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.