Установка очистки и отмывки пластин и фотошаблонов XWS-602D-300

Установка очистки и отмывки пластин и фотошаблонов XWS-602D-300

Для самых больших полупроводниковых пластин диаметром 300 мм (12 дюймов) предлагаются высокопроизводительные установки SRD, доступные как в однокамерной, так и в двухкамерной (two-bowl) конфигурации. Эти системы, например, модели XWS-602D-300, способны обрабатывать до 25 пластин за цикл в каждой камере. Оборудование обеспечивает гибкость процессов, позволяя выполнять как полный цикл «отмывка + сушка», так и только сушку. Установки совместимы с высокими и низкопрофильными кассетами. 

Установка очистки и отмывки пластин и фотошаблонов XWS-602D-300

Чтобы получить коммерческое предложение и купить установку очистки и отмывки пластин XWS-602D-300, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.