Установка безмасковой 3d литографии

Установка безмасковой 3d литографии

Настольная установка безмасковой 3d литографии модели Altraspin позволяет работать с полупроводниковыми пластинами и другими материалами до 100 мм и создавать различные структуры. Установка 3D литографии выполнена в настольном исполнении и имеет возможность работать в научно-исследовательских лабораториях и производствах. Установка позволяет отказаться от фотошаблонов и не использовать маску. 

Установка безмасковой 3d литографии Altraspin

Примеры структур установки безмасковой 3d литографии

Установка лазерной 3d литографии имеет широкое применение в различных областях исследований и производства в микроэлектронике, в биомедицине, в наноинженерии и других отраслях науки и приборостроения. Пунктами ниже показаны изображения различных структур с примерами при производстве метаматериалов. Например на первом фото показана микрорамка для дальнейшего осаждения керамики из паровой фазы.  

Образцы микроструктур 3d литографии

Применение установки лазерной 3d литографии

Применение установки 3d безмасковой лазерной литографии

Установка лазерной 3d литографии создает структуры на поверхности пластин и подложек с разрешением от 0,2 до 3 мкм на различных образцах. Вы можете написать что угодно, от фотошаблонов до исследовательских прототипов для фундаментальной или прикладной науки. Мы оптимизировали его для простоты использования и низкой стоимости изготовления и обслуживания, максимизируя использование готовых деталей без ущерба ни к качеству записи, ни к ее возможностям. Лазерная безмасковая 3D литография значительно снижает затраты и сроки выполнения работ в таких областях, как микрофлюидика, микроэлектроника, микромеханика и материаловедение, устраняя зависимость от внешних поставщиков фотошаблонов. 

Принцип литографии двухфотонной полимеризации

Литография двухфотонной полимеризации

Установка безмасковой лазерной 3d литографии основа на принципе двухфотонной полимеризации. Основываясь на явлении нелинейного двухфотонного поглощения технология, которая внедрена в модели Altraspin создает прочную 3D-печатную структуру из фотоактивируемого материала. Два фотона могут быть поглощены одновременно фотоактивированным мономером в очень маленьком объеме, называемом «voxel», в фокусе импульсного лазера. Начинается химическая реакция, и жидкий мономер становится твердым полимером внутри вокселя «voxel». При правильной комбинации оптических элементов и материала мономера диаметр вокселя «voxel» может составлять всего 0,1 мкм! Именно поэтому наша технология идеально адаптирована для 3D-печати сверхвысокого разрешения. 

Технические характеристики установки безмасковой 3d лазерной литографии

Параметр 

Значение 

Разрешение 

От 0,2 до 3 микрон 

Скорость записи  

до 5 мм/с 

Максимальный размер  объекта

100 х 75 х 0,6 мм 

Поддерживаемые форматы  

CAD и другие 

Чтобы получить коммерческое предложение и купить установку лазерной 3d литографии, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.