Центрифуга для нанесения фоторезиста ASC 200

Рады предложить настольную центрифугу для нанесения фоторезистивных пленок и различных покрытий от тайваньского производителя YOTEC Precision. Настольная центрифуга модели ASC 200 предназначена для работы с пластинами и подложками размером 200 мм в диаметре. Центрифуга для нанесения фоторезиста ASC 200 выполнена в настольном исполнении с сенсорным дисплеем и может применяться в лабораториях, цехах микроэлектроники, исследовательских центрах и мелкосерийном производстве.

Опции центрифуги для нанесения фоторезиста ASC 200

Центрифуга имеет большое количество опций, которые помогут выполнить процесс нанесения резистивных пленок и других покрытий. Данная модель разработана с учетом современных требований к качеству и воспроизводимости процессов фотолитографии и предлагает расширенный функционал за счет комплектации специализированными опциями. В стандартную поставку входит центрирующий инструмент для точного позиционирования подложек, перистальтический насос для автоматической подачи фоторезиста, набор вакуумных держателей для различных типов образцов, а также опциональная система удаления излишков фоторезиста с краев пластины и отмывки обратной стороны подложки.

Центрифуга для нанесения фоторезиста с центрирующим инструментом

Центрирующий инструмент для настройки вакуумного держателя и пластины в центрифуге для равномерного нанесения фоторезиста и других тонких пленок, жидкостей и других рабочих веществ. Центрирующий инструмент позволяет установить точное позиционирование круглой пластины по центру вакуумного держателя. Данный ручной инструмент удобен при процессе литографии. Также к поставке может быть другой различный инструмент для фиксации различных держателей. 

Центрифуга для нанесения фоторезиста с перистальтическим насосом

Опция для дозированной подачи фоторезиста. Перистальтический насос от тайваньского производителя YOTEC Precision Co. для автоподачи резиста и других наносящих веществ. Перистальтический насос позволяет наносить вещества дозировано и равномерно. Доступен перистальтический насос для автоматической дозированной подачи рабочего вещества модели PF102 с расходом рабочего вещества: 0,00016–570 мл/мин и перистальтический насос модели SS80 с расходом рабочего вещества: 0,005–32 мл/мин;

Центрифуга для нанесения фоторезиста с вакуумными держателями

Различные вакуумные держатели (для маленьких элементов пластин, для квадратных подложек, специальный держатель на 60х48 мм). Под заказ возможно изготовление различных размеров нестандартной формы. Вакуумный держатель выполнен из алюминия и крепко фиксируется к основанию центрифуги для нанесения. Широкий выбор размеров, например: прямоугольные  и квадратные 100 х 100, 100 х 50, 50 х 50, 30 х 30, 20 х 20, 10 х 10, круглые диаметром 100, 76, 50, 30, 20, 10 мм.

Центрифуга для нанесения фоторезиста с опцией удаления остатков

Опция удаления излишков фоторезиста с края пластины и опция отмывки обратной стороны. Известная проблема метода центрифугирования нанесения фоторезиста, это скопление рабочего вещества на краях пластин. Данная опция решает эту проблему и слой становиться равномерным. Опция отмывки нижней части стороны пластины. Важно для случая при двухстороннем нанесении, когда необходима оптимальная поверхность. Данная опция позволяет обработать обратную сторону пластины и подложки. 

Тех. характеристики центрифуги для нанесения фоторезиста:

Чтобы получить коммерческое предложение и купить центрифугу для нанесения фоторезиста asc 200, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.