Спиральный вакуумный насос SCR 59 является флагманской моделью в линейке SCR, представляя собой высокопроизводительное «сухое» (безмасляное) вакуумное оборудование, предназначенное для решения самых сложных задач в промышленности и научных исследованиях, где требуются максимальная быстрота откачки, глубокий вакуум и абсолютная чистота рабочей среды. Модель обеспечивает быстроту откачки 59,8 м³/ч и предельное остаточное давление 0,01 мбар, что позволяет достигать уровня высокого вакуума, достаточного для работы с крупногабаритными камерами, сложными технологическими установками и чувствительными аналитическими приборами.


В основе работы SCR 59 лежит отработанный и высоконадежный спиральный (скролльный) принцип сжатия, реализованный с использованием прецизионной механики и материалов, устойчивых к длительным нагрузкам. Конструкция состоит из двух спиралей — неподвижной и подвижной, совершающей эксцентричное движение с высокой точностью. Благодаря отсутствию механического контакта между спиралями (рабочий зазор поддерживается бесконтактным за счет газодинамического эффекта) обеспечивается исключительная надежность и минимальный износ.

В высокотехнологичных отраслях, таких как полупроводниковая микроэлектроника, производство микроэлектромеханических систем (МЭМС), оптоэлектроника, фотоника и квантовые технологии, SCR 59 находит широкое применение в критических технологических процессах, требующих чистого «сухого» вакуума, высокой производительности откачки и безупречной стабильности. Спиральный насос SCR 59 используется в установках магнетронного, электронно-лучевого, термического и ионно-лучевого напыления тонких пленок.
|
Параметр |
Значение |
| Производительность спирального насоса, м³/ч | 59,8 |
|
Предельное остаточное давление, мбар |
0,01 |
| Мощность электродвигателя, кВт | 1,5 |
|
|
В производствах, связанных с вакуумной заливкой компаундов, сушкой электронных компонентов, отжигом полупроводниковых пластин, тестированием герметичности корпусов микросхем и сборкой оптоэлектронных модулей, SCR 59 демонстрирует высокую надежность и стабильность характеристик даже при интенсивной циклической эксплуатации. Благодаря быстроте откачки 59,8 м³/ч насос способен эффективно работать с камерами объемом до нескольких тысяч литров, обеспечивая короткое время выхода на рабочий режим и высокую производительность технологического процесса. SCR 59 также активно применяется в процессах химического осаждения из газовой фазы (CVD), атомно-слоевого осаждения (ALD) и молекулярно-лучевой эпитаксии (MBE), где чистота вакуумной среды является критическим фактором, влияющим на однородность, толщину, легирование и электрические характеристики наносимых слоев. |
Чтобы получить коммерческое предложение и купить спиральный насос SCR 59, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.