Термоплитка для задубливания фоторезиста EMS Dual

Термоплитка для задубливания фоторезиста EMS Dual

Термоплитка для сушки фоторезиста EMS Dual специальная система сушки, созданная для предприятий и учреждений с большим производством, когда требуется за одно время сделать одномоментно две операции литографии. Благодаря термоплитке для задубливания фоторезиста EMS Dual у технолога появляется возможность две операции сушки независимо друг от друга. Для каждого процесса предусмотрно отдельное табло, показывающее градусы по Цельсию и в Фаренгейтах. Как и все остальные системы от компании Electronic Micro Systems Ltd. данный инструмент имеет портативные габариты и настольное исполнение. 

Термоплитка для задубливания фоторезиста   

Технические характеристики термоплитки для задубливания фоторезиста EMS Dual:

— Размер пластин: от 10 до 150 мм (круглые); 10х10 мм, 24×30 мм, 48×60 мм, 100х100 мм (прямоугольные)
— Температурный диапазон: от 0 до 150 °C (опционально 250 °C)
— Точность по температуре: 0,1 °C 
— Неоднородность: ±1 %
— Габаритные размеры: 150 (Ш) × 150 (Г) × 250 (В) мм

Чтобы получить коммерческое предложение и термоплитку для задубливания фоторезиста, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.