Установка нанесения фоторезиста

Установка нанесения фоторезиста

На Ваш выбор предлагается компактная установка нанесения фоторезиста. Данная система нанесения проста в использовании и не требует много места. Установка для нанесения полностью работает в автономном режиме, основные параметры процесса центрифугирования, такие как скорость, обороты и уровень вакуума полностью отображены на дисплее. У оператора имеется возможность создавать и сохранять рецепты нанесения, а также редактировать в случае изменений задач литографии. 

Установка нанесения фоторезиста   

Нанесение фоторезиста

Нанесение фоторезиста

Система нанесения фоторезиста позволяет наносить слои на полупроводниковые пластины 100, 200 и 300 мм. Нанесение фоторезиста может производится как в ручную, так и с помощью дозатора. В комплекте к центрифуге нанесения фоторезиста идет прозрачная крышка, благодаря которой оператор может наблюдать за процессом нанесения.  Модельный ряд установок для нанесения фоторезиста имеет различные скорости вращения ротора с вакуумным держателем пластины от 20 до 12000 об/мин. 

Тех. характеристики установки нанесения фоторезиста:

Модель центрифуги

Скорость вращения

Пластины

Габариты

ASC-80

от 200 до 10000 об/мин

до 4 дюймов

210х250х200 мм

Чтобы получить коммерческое предложение и купить установку нанесения фоторезиста, отправьте заявку на наш электронный адрес info@mivatek.ru или напишите нам через форму обратной связи в разделе Контакты.